OES (optik emisyon spektrometri) ve C/S (karbon-kükürt) analizlerinde sonuç doğrudan numune yüzeyi kalitesine bağlıdır. Metalik numunenin punch, press ve yüzey işlemlerini standart, tekrarlanabilir biçimde gerçekleştiren Multi EQP-100, analiz hatalarını yüzey hazırlığı kaynaklı olmaktan çıkarır.
NEDEN KRİTİK
OES cihazı numuneden ışın aldığında, analiz penceresinin tamamında homojen ve temiz bir metalik yüzey olmasını bekler. Yanlış punch veya düzensiz yüzey; sahte oksit pikleri, düşük tekrarlanabilirlik ve hatalı kalibrasyon anlamına gelir.
ÜRÜNLER
Alt gruba ait ürünlerden birini seçerek detay sayfasına geçebilirsiniz.
Bu alt grupta henüz ürün bulunmuyor.
Cihazlarımız hakkında detaylı bilgi ve fiyat seçenekleri için hemen ulaşın. 25 yıllık tecrübemizle yanınızdayız.